Цілі і способи легування

Цілі легування

При виготовленні напівпровідників легування вважається невід'ємним технологічним процесом (поряд з осадженням і травленням). Його основна мета — корекція типу провідності і концентрацію носіїв в об'ємі напівпровідника для досягнення певних властивостей (отримання потрібної плавності pn-переходу). Найпоширеніші елементи для легування кремнію — фосфор Р і миш’як As (дозволяють отримати n-тип провідності) і бор (p-тип).

Способи легування

На сьогодні відомо три різні технології легування: іонна імплантація, термодифузія і нейтронно-трансмутационное легування.

Купити, ціна

На складі Evek GmbH представлений широкий асортимент виробів з легованих матеріалів. Реалізуємо сертифіковану продукцію, ціна залежить від обсягу та додаткових умов поставок. Ми цінуємо час своїх клієнтів, тому завжди готові допомогти з оптимальним вибором. До ваших послуг досвідчені менеджери-консультанти. Якість продукції гарантується суворим дотриманням норм виробництва. Терміни виконання замовлень мінімальні. Оптові покупці отримують пільгові знижки.